晶圓切割UV解膠機(jī)
發(fā)表時(shí)間:2021-07-01 15:59:00瀏覽量:2814
一、工藝背景介紹
1,UV減粘膜是一種將特殊配方膠水涂布于PO/PET等薄膜基材表面,有較高的初粘力(最高達(dá)25N/25mm),而UV照射后,粘性降低(低至0.05N/25mm以下)的薄膜。
2,UV減粘膜在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用
封裝制程流程圖
UV減粘膜由于涂布特殊膠水,具高粘著力,所以在切割時(shí)能以超強(qiáng)的粘著力粘住晶片,即使是小晶片也不會(huì)發(fā)生位移或脫落,保證晶片于研磨、切割過程不脫落,不飛散,不擴(kuò)張,防止崩邊,保證加工品質(zhì)。加工結(jié)束后,只要照射適量的紫外線就能瞬間的降低粘著力,即使是大晶片也可以用輕松正確的抓取而沒有殘膠污染,提高撿晶時(shí)的撿拾性.
二,設(shè)備簡介及機(jī)臺(tái)特點(diǎn)
設(shè)備簡介
UV LED 解膠機(jī)是專用于半導(dǎo)體制程UV減粘工藝。該設(shè)備有使用操作方便、性能穩(wěn)定、效率高和經(jīng)濟(jì)實(shí)用等優(yōu)點(diǎn)。
機(jī)臺(tái)特點(diǎn)
1、產(chǎn)品名稱:實(shí)銳UV 解膠機(jī);
2、產(chǎn)品型號(hào):實(shí)銳UVG-200;
3、外形尺寸:L520*W490*H740(mm);
4、材質(zhì):外殼采用冷扎鋼板折彎制作;
5、UV 光源強(qiáng)制風(fēng)冷,溫度低;
6、人體工程學(xué)操作界面,簡單明了。